微弧氧化是一种在种植体表面形成多孔粗糙氧化层的理想的方法，而且该氧化层的形貌特征和粗糙程度可以通过调节电压等微弧氧化参数来改变. 微弧氧化膜的多孔结构是由于随着微弧氧化过程的进行，基体表面的氧化层越来越厚，于是局部出现微弧放电，击穿表面的绝缘氧化层而形成[4]. 随着微弧氧化最终电压的升高，微弧放电越剧烈，从而使得表面孔洞直径以及粗糙度更大. 而且伴随着TLM表面形貌的改变和粗糙度的提高，其它的一些与形貌和粗糙度相关的表面特性也有变化，如TLM的表面润湿性和表面能也有所提高，且与微弧氧化电压呈正相关关系.

　　细胞在材料表面的增殖受材料表面性质的影响. Kunzler等[2]报道大鼠头盖骨成骨细胞随着表面粗糙度增加增殖率明显增加. 材料表面高湿润性及高表面能也会促进细胞的增殖[5]. 我们的实验中，成骨细胞在微弧氧化TLM表面的早期增殖优于抛光表面，而且细胞在高电压微弧氧化表面的增殖优于低电压微弧氧化表面. 该结果与以前报道的规律是一致的，因为微弧氧化处理提高了TLM表面粗糙度及与粗糙度相关的表面润湿性和表面能，且这些效果与微弧氧化电压正相关. 我们还观察到细胞的早期增殖速度较快，而到168 h时细胞增殖速度开始减慢. 原因可能是培养168 h后试样上的细胞开始接触融合，从而出现接触抑制现象.

　　成骨细胞的总蛋白合成具有重要意义，它提示细胞在材料表面的健康生长和正常的细胞反应. 本实验中的总蛋白合成用MTT A490 nm值做了标准化，代表细胞的合成和分泌活性. 细胞的合成和分泌活性对材料的表面特性比较敏感[6]. 但关于材料表面特性对细胞总蛋白合成影响的报道不一，有报道不同特性表面的总蛋白合成无差异[7]，也有报道光滑表面的总蛋白合成较低[8]. 我们的实验结果与后者相似，TLM表面微弧氧化处理后促进成骨细胞的合成和分泌活性，但不同电压微弧氧化表面之间效果无差异. 造成各实验报道差异的原因尚不清楚，所使用的细胞来源不同以及所使用的实验方法不同可能是其原因之一.

　　ALP活性是成骨细胞分化的一个重要标志，目前普遍接受的观点认为材料表面粗糙度的增加会促进细胞分化，而且也有报道微弧氧化纯钛促进人骨肉瘤细胞ALP活性 [4]. 我们的结果与此相反，TLM微弧氧化后粗糙度增大，但成骨细胞的ALP活性却受到抑制. Zhu等[3]的实验结果却是微弧氧化表面的细胞ALP活性与对照组无统计差异. 由此可见，关于材料表面特性对细胞分化的影响还存在分歧，我们的实验中微弧氧化TLM表面成骨细胞ALP活性降低的具体原因还需进一步实验探索.

　　综上所述，微弧氧化处理可在TLM表面形成一层多孔粗糙的氧化层，且该氧化层的特性如孔洞直径和粗糙度随微弧氧化电压的升高而增大. 微弧氧化处理促进成骨细胞在TLM增殖及合成和分泌活性，但抑制成骨细胞的ALP活性，且高电压微弧氧化表面促进增殖和抑制ALP活性作用更明显. 其中微弧氧化促进成骨细胞合成分泌活性和抑制其ALP活性的具体机制有待研究.